مرشح جهاز التنفس الجزيئي لقناع الغاز مع استخدام الكربون النشط P2 R لجهاز التنفس الصناعي

مرشح P3 R، باستخدام مرشح على الوجهين، تبلغ مساحة المرشح 3-4 مرات من مرشح الجسيمات الفردي، وكفاءة ترشيح عالية، وقدرة كبيرة على احتجاز الغبار.

مقاومة منخفضة للتنفس، يتنفس المستخدمون بشكل أكثر سلاسة وراحة.

الوصف :

تفاصيل الصور:

مجال الاستخدام:

• المواد الصلبة مثل تلك الناتجة عن معالجة المعادن والفحم وخام الحديد والقطن والدقيق وبعض المواد الأخرى.
• جزيئات سائلة أو زيتية من البخاخات التي لا تنبعث منها أيضًا أبخرة ضارة.
• الأبخرة المعدنية الناتجة عن اللحام والنحاس والقطع وغيرها من العمليات التي تتطلب تسخين المعادن.
• المواد الجسيمية المشعة مثل اليورانيوم والبلوتونيوم.